韩元看了一眼正常运转的‘sc-c八轴六联动数控加工设备’，确认没有问题后便又坐回了显示屏前面，开始对照着图纸编写光刻机零部件的加工程序。

中央计算机组装好后的这一段时间，他除了将计算机系统和各种软件转移进去外还编写了一些光刻进零部件的加工程序。

只不过因为时间的关系，数量上并不多，再加上这一次适应碳基芯片光蚀的光刻机他准备全部重新弄，所以除了极少部分的零部件可以使用原先的外，其他的都需要重新制造。

这样一来，光刻机的零部件加工就是一件相当耗费时间的事情了。

韩元庆幸的是工业设备整体想进行了一次升级，所有的设备中都填入了控制芯片并且连上了中央计算机，可以通过中央计算机直接进行管控。

其次是中央计算机也进行升级，可以做到一台计算机控制多台‘sc-c八轴六联动数控加工设备’。

否则还像原先一样，通过一台数控加工设备慢慢车，那需要的时间就算是二十四小时连轴转动至少也是三四个月。

现在多台数控加工设备同时进行处理不同的零部件，总体效率提升了许多。

整体而言，韩元现在的工业设备厂房还缺少一台工业机器人以代替他来做一些搬运零部件之类的事情。

如果有了工业机器人，那么以现在的工业设备以及中央计算机的能力，再加上小七的支持，完全可以做到无人化生产。

一天忙碌十四个小时，花费了一周的时间，韩元总算将制造光刻机需要的零部件的加工程序编写完成了。

这些大部分能通过数控设备加工的零部件他已经准备好了对应的合金。

通过卫星以及新中央计算机，再加上部署在厂房内的监控设备，远在华国泰山的小七能掌控厂房各地的加工情况。

确保零部件加工的正常进行，以及出了问题可以第一时间联系他。

处理好零部件的加工程序后，韩元短暂的休息了一下，然后再度来到了化学实验室。

之前在这边是制造碳纳米管、石墨烯单晶材料，现在则是制造适用于碳基芯片的光刻胶。

光刻胶这种东西，在硅基芯片的制造过程中是离不开的，其重要性自然不言而喻。

用于硅基芯片的光刻胶，主要是由成膜树脂、光引发剂、溶剂组成的，有些可能还包含有抗氧化剂，均匀剂和增粘剂等辅助成分。

在硅基芯片进行表面加工时，采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。

这是如何将掩膜版上的电路图转移到晶圆上的关键点之一，重要性堪比光刻机。

一块芯片的精度，其实不仅受光刻机手术刀光波长的影响，同样受光刻胶精度的制约。

如果光刻胶精度不够，即便是光波波长够了，也是加工不出来的。

所以光刻胶对于整个芯片行业来说，都有着至关重要的作用。

顶级的碳基芯片和硅基芯片一样，使用光刻机进加工制备，那么自然同样需要一种针对性的光刻胶来进行蚀刻处理。

而石墨烯晶圆和单晶硅晶圆，这两种材料虽然都是半导体，但因为两者的性质不同，对其进行曝光处理，需要的光刻胶自然不同。

光刻胶这东西，在硅基芯片上大体分两种类型。

一正一负两大类。

正性类型的光刻胶在涂抹到晶圆上，经过曝光、显影处理后，曝光的区域被溶解，未曝光部分留下来，这就是正性类型光刻胶。

反之，则是负性类型光刻胶。

硅基芯片是这样的，但碳基芯片不是。

碳和硅，就单质性质来说，碳的稳定性是要大于硅的。

而在两者的半导体材料这一样，石墨烯晶圆的稳定性同样要大于单晶硅晶圆。

所以真正高精度的碳基光刻胶只有一种，那就是负性光刻胶。

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