要知道在1997年。此时主流的光刻机线程也不过0.25微米。采用的还是krf248nm光源。而倭国正在研发的193nm干式光刻机线程也仅仅是0.18微米。下一步才是0.13微米。90nm。

也就是说采用另外一条技术路线的华国人有3到5年的宝贵追赶时间。有这个时间应该有机会取得突破。

只要这款光刻机被攻克。华国就很可能实现弯道超车。为此赌一把绝对是值得的。毕竟华投有了相应的技术积累。

除此之外。还有一个好处。那就是193nm干式光刻机到了65nm左右时。差不多快到极限了。而采用华国路线。线程可以直接到达30nm左右。都问题不大。

所以到达这段线程区间时。欧美要么更换光源全部推倒重来。要么与华国交换技术。前者需要大量投资。而后者有现成的技术。到时候除非资本家脑子短路了。否则他们一定会与华国交换专利。因此华国的技术路线。明显才是未来。那么现在投入再多。也是值得的。

就在1998年初。更换了身份之后的孙祖杰。以华投决策小组组长的身份。出席了新型光刻机的研发动员大会。林先生也参加了这次动员大会。

这几年林先生的研究团队精力都放在天翼那条0.5微米芯片生产线的调试和改进上。并没有权限知道华投在光刻机领域的那些秘密。

经过几年的合作之后。林先生的研究团队已经被认可。所以今天他才有资格出席今天的动员大会。参与到这款代表未来的光刻机研究。

林先生听着长吉光电所的同志公开新型光刻机的技术方案。简直不敢相信自己的耳朵。

什么时候内地已经攻克了浸没式光刻机。而且有了不止一代产品。那就说明他们很早就有这个思路。并已经实现。可是他们为什么又一直保密。没有对外公开？

不过转而一想。林先生也意识到了什么。这些年内地的半导体工业一直在追赶。而且速度很快。

九十年代初就宣称弄出了1微米光刻机。而到了95年已经攻克了0.5微米光刻机。所以欧美相继对华国解禁了一部分技术封锁。恐怕就是他们浸没式光刻机的效果。怪不得华国人一直对自己的国产光刻机极端保密。不愿意对外公开。原来是这个原因。

这样一来。他的兴趣猛然间大了很多。他怎么也没有想到他的思路竟然在内地已经成型。这太让人兴奋了。

尤其是当他知道孙祖杰根据他八十年代的论文。才启动的研发时。更是高兴的不得了。

“孙总助。墙里开花墙外香。我们华人能够有这样的追赶机会。而且我还在其中起到了一些绵薄之力。真是与有荣焉！”