第577章 大彻大悟

杨希,要想搞好半导体,第一是要有人,顶尖的晶片专业人才需要长时间的培养,而我们既没人,又没钱,这样下去,我担心差距会越拉越大。”

孙祖杰说这段话的时候有些疲惫,杨希有些心疼的说道,“祖杰,你已经做得够好了,不要给自己太大的压力!”

“够好?我觉得还可以更好!你知道我刚才做了一个什么决定吗?”

“嗯?说说看!”

“我决定启动第二条八英寸晶圆,0.5微米製程晶片生产线的建设计划,争取三到四年内建成,这样送到李家坡培训的那批同志正好可以接手,发挥关键作用。”

“0.5微米製程的晶片生产线你怎么可能买得到?你曾经说过美倭出口我国的晶片生产线至少要领先两代以上。

我虽然不太关注半导体行业,但是我知道目前正在建设的晶片生产线主流标準是0.35微米製程,你想买到0.5微米製程的生产线我看至少要等少三四年。”

“呵呵,杨希,没想到你还挺关心这一块的!”

“那当然,谁让你动不动就念叨这些!”

“本来确实如此,不过国外在进步,咱们华投也同样在进步,咱们离0.5微米的光刻机已经一步之遥,如果倭国鬼子要想打压我国的发展,不下大本钱是不行了!”

孙祖杰嘴上这么说,实际上他还是在咋呼,欧派微造联合国内的科研院所目前也才刚刚吃透1微米光刻机的生产技术,这还是因为看到了倭国进口光刻机才提前搞定的。

但是华国在浸入式光刻技术上研究了将近十年,已经有了不少独家秘诀,两相结合,生产出0.5微米製程的晶片已经成为可能。

这样一来,只要欺骗得当,就很有可能逼迫美倭早一点出口0.5微米光刻机,要知道九十年代,早一年晚一年这差距太大了。

晶片製造工艺的更新换代大概三年一个周期,但进入奔腾时代,製程工艺的进步速度更快,竟然达到了两年一个周期。

到了1993年,主流的晶片製造工艺已经达到了0.5微米,然后intel公司两年一代,0.35微米,0.25微米,0.18微米,到了2001年已经实现了0.13微米工艺的量产。

考虑到晶片工厂长达两年的建设周期,向华国这样的追赶者简直无所适从,基本上晶片生产线还在建设中,就已经落后于主流标準了。

但是存储器却不一样,存储器的製造工艺要落后于处理器,8英寸,0.5微米製程生产线只要建成,到90年代末都不算落后,这样就有可能收回成本。