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看着田旭东同学在足球场上纵横驰骋大杀四方，捧走了大力神杯成为了新一代球王，叶华功德圆满回到了台积电设置在氹仔岛的合作实验室搞研发。

前两年刚完成了浸入式光刻技术，现在叶华又要带领台积的供应商al光刻机研发部门进入euv（极深紫外）时代。

al为叶华旗下的高通、华技、台积电、东方电子等半导体生产商提供光刻机及相关服务，twinscan系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向al采购twinscan机型，比如叶华旗下的高通、华技、海力士（hynix）、台积电（tc）、中芯国际（ic）等，同时也在各地成立了合作实验室。

al的产品线分为pas系列、at系列、xt系列和nxt系列，其中pas系列光源为高压汞灯光源，现已停产；at系列属于老型号，多数已经停产。市场上的主力机种是xt系列以及nxt系列，为arf和krf激光光源，xt系列是成熟的机型，分为干式和沉浸式两种，而nxt系列则是现在主推的高端机型，全部为沉浸式。目前已经商用的最先进机型是twinscannxt1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。

al正在加紧研制基于极深紫外（euv）光源的新型光刻机，型号定为nxe系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。

众所周知，光刻是集成电路芯片制造的核心工艺。光刻机的成本占到了整个芯片生产的三分之一以上。而在光刻机的市场上，白婷在1977年就帮叶华注册的al公司，而如今占到了全球光刻机80%以上的市场。

1960年代集成电路技术诞生后，最早的光刻工艺还不算什么尖端科技。叶华早期收购的仙童和ibm这些第一代芯片公司都是自己设计光刻工具，只有gca，ks和kasper等少数公司开发一些独立的光刻设备。进入1970年代，光刻机成为不少米国公司竞争的焦点。先是kasper推出接触式光刻设备，但是很快，接触式被接近式机台所淘汰，因为掩模和光刻胶的接触会很容易带来污染。接下来perkinelmer（pe）推出投影式光刻系统，迅速占领市场。

1978年，仙童的光刻部门剥离出去，并入了al公司，很快推出步进式光刻机，光刻机的分辨率达到了1微米。但是由于狌能问题，暂时没能撼动perkinelmer投影式光刻机的市场领先度，直到进入80年代后，al公司又推出更成熟的步进式光刻机nsr-1010g，投影式光刻机的市场才开始萎缩。整个80年代上半期，尼康，gca也开始进入光刻机全球市场。

也是在这个时候，al总公司搬迁到了荷兰埃因霍温，推出twinscan系统和割命性的双段技术，在对一块晶圆曝光的同时测量对准另外一块晶圆，从而大大提升了系统的生产效率和精确率。并投入全自动化生产和飞利浦展开竞争，飞利浦想象不到5年，叶华的al公司会发展这么迅猛，把他们挤得只有1%的市场份额。1983年4月1日，al公司蛇吞象般收购了电子巨人荷兰飞利浦公司。

在仙童公司还未改名成外星人公司签，光刻部门最初只有31名员工。收购了飞利浦的al公司第一年，就推出了浸入式光刻技术。当然，这套系统并不是凭空而来，仙童关于光刻系统的研发工作早在1960年代就开始了，事实上仙童最初的注资中有180万美元就是用尚未研发完成的浸入式光刻技术的。

去年，公司发展到1000多员工，搬入位于veldhoven新建的机器人厂房，这个地方距离飞利浦研发实验室只有几公里远，公司推出改进了对准系统的pas2500步进型，奠定了随后多项技术创新的基础。也在那一年，al同外星人和雅马哈的摄像头部门建立了稳定的合作关系。

今年al的国际化拓展越发成功。他们跟随飞利浦在宝岛的合资流片工厂台积电开拓了亚洲业务，在米国的员工数增加到840人，建立了十五个办公室。为高通、台积电等公司送来急需的上万台光刻机订单。

从此al完全自立，他们的客户数遍布全球，订单排到了三年后，成为主导国际光刻机市场的一哥。叶华旗下多个高科技公司崛起，把其他半导体公司逼迫得无路可退，原先主导光刻机市场的美国光刻机厂商gca，ultratech和pe光刻部先后退出或者缩小规模。日本的尼康和佳能也不能幸免，已经三个月没有接到订单，尼康承受不了巨额投资却不见回报决定退出，佳能也宣布庞大的成本削减计划，工人们开始放长假。为了挽救公司，尼康和佳能的管理层找到了台积电的董事会成员林秋霞，通过她说服其他董事决策为他们公司再提供一笔资金和技术。

叶华的团队没有辜负林秋霞的信任，上个月他们各出资6千万美元收购尼康30%的股份和佳能40%股份，并转让了pas5500的技术，这一具有业界领先的生产效率和精度的光刻机。pas5500也为尼康佳能带来几家关键的客户，包括台积电，高通和中芯国际，这些客户是他们后来实现赢利的关键。现在al他们扩建了位于veldhoven的derun厂房，这里将为成为公司新总部所在。叶华通过台积电的实验室为新总部输送最新的光刻技术。

twinscanat:1150i量产后没多久，首个193nm的浸入式系统twinscanxt:1900i发布。这些创新的系统让客户可以生产更小尺寸的芯片，其特点是可以让光经过透镜组和晶圆之间的一层水实现投影。浸入式光刻技术全部从叶华的特斯拉数据库一次输出。在那之前，全球的半导体工业都为超越193nm光刻绞尽脑汁，但是先后失败。只有叶华提出的这个工程师相对简单的办法最后成功。从那以后，浸入式光刻一直做到如今的7nm。正是凭借浸入式光刻的突破，让al一跃成为全球光刻机市场的大霸王。