908工程，至少集中了大量中国的科研单位，攻关了一系列项目。虽然，项目本身亏损了20亿元，但却是自主攻关研发了一些技术，这些技术的价值和锻炼出来的团队的价值，其实是远远被低估了。

909工程的负面影响，是巨亏掏空了中国用于发展集成电路的资本，被日本人坑的很惨，基本掏空了中国集成电路产业的本钱。之后，国家投入集成电路产业的资金，开始锐减。步入21世纪，国内芯片产业却是进入了真正意义上的寒冬。即便是看到国内和国际市场的工艺制程差距在扩大，但是，民间资本因为看不到利润，所以很少投资。国家资本，则是缩小产业投入规模，仅再科研单位和高校，象征性的拨点钱，消极跟进国际上半导体工艺和设计。

当然了，现在908工程还未拖到97年投产，由于，目前国内半导体产业比历史上更发达，无论是人才团队，还是设备工艺，大部分都可以在国内采购，所以，94年已经投产。工艺水平初期是1.2微米，但是随着生产线对于技术的掌握和吃透，做到0.8微米是没问题的，甚至，半导体工艺也不是绝对的，如果团队能挖掘潜力，让工艺水平突破设备的极限，做到0.5微米，也不是不可能。

比如，后世的英特尔迟迟卡在10纳米工艺制程，长期在使用14纳米制程。相对而言，台积电和三星，已经开始进入7纳米阶段。并不说说，台积电和三星的设备比英特尔更先进。其实，三家公司的设备上，是同一代产品。

只不过，三星和台积电，对于设备吃的更透，率先挖掘出了设备的潜力。而英特尔则是因为，关键的地方出了问题，一直卡在14纳米，未能让设备发挥出更大的潜力。

而90年代的1微米工艺制程的设备，如果初期投产达不到相对精度，可以降低标准，当做1.2微米的工艺，降低精度来增加良品率。随着时间发展，不仅仅良品率会越来越高，而且，如果生产线的技术人员进行一些改进和挖掘潜力，少则不需要更换光刻机，小范围改进就可以将工艺升级到0.8微米。如果，整个团队都是比较牛逼，不换光刻机，用精度更落后的光刻机挖掘潜力，将工艺提升到0.5微米，也不是不可以做到。

简单说，光刻机等等设备仅仅是设备，能把生产设备的潜力挖掘到什么地步，则是要看芯片工厂的管理和技术团队的水平。

这跟绣花一样，同样的绣花针，有的人就能在布上绣出华丽精致的画卷。不会用的门外汉，就只能用绣花针扎人。

“现在908工程怎么回事？”林棋问道。

“投产了，但是找不到订单！”小雷表示说道，“华晶的领导到香港来化缘，求点订单！”

“好吧，我去见一见！”林棋并没有因为华晶工厂是908工程，就给额外的青睐。首先，现在的908工程，别说跟国际比了，就是国内比，也是落后了两代以上。

新创芯和骊山半导体，目前主流的工艺水平，已经是0.5微米。再经过几年挖掘潜力，不需要更换光刻机，部分的生产线，应该是可以达到0.35微米甚至0.25微米的程度。

跟两大龙头企业相比，华晶的地位很尴尬，也很鸡肋。

当然了，华晶再差，好歹是中国的半导体公司，如果是能帮到的，林棋还是愿意帮扶的。