虽然，在加工难度而言，单晶炉比光刻机那种高精尖端的设备要简单的多，但实际上，单晶炉也是非常关键的半导体加工设备。

目前全世界的单晶炉，还停留在无热屏时代，也就是说，中国的晶圆厂跟海外有差距，但是，单晶炉的技术差距实际上并不是天差地远，仅是材料工艺方面存在一定差距，但国内半导体产业大部分的单晶炉还是国产为主。

而后来的热屏障时代，国内很长一段时间被海外厂商蒙蔽，在海外晶圆厂已经用上了热屏障单晶炉时，海外的供应商高价格出售给中国的设备，长期都是没有热屏障的传统单晶炉。导致国内很长一段时间内，根本就不知道有这种设备。结果，在跟海外巨头竞争中，无论是工艺还是成本，都败的一塌糊涂。

等到国内半导体产业指导了单晶炉热屏这个微小的创新之后，国内的晶圆厂的规模和技术跟海外厂商的代价已经拉的更大了。

单晶炉热屏障技术影响有多么深远呢？业界把单晶炉工艺分为无热屏时代和热屏单晶炉时代。

简单说，有热屏障技术之后，不仅仅是降低热量损失，从而达到节能降低成本的效果，而且，还可以让晶圆的直径更大，生产出更高品质的单晶硅棒。

对于晶圆厂而言，晶圆的直径当然是越大越好，直径尺寸越大的晶圆，能切割加工出来的晶体管数量越多，芯片的产能和良品率也会获得极大的提升。

简单说，光刻机的研发，即使有钱清楚方向，也需要比较长的周期。所以，蒙欣准备先搞一个比较容易出成果，对于国内半导体产业促进也比较大的项目。

这个容易出成果的项目，树立了团队的信心之后，再去啃那些更难，需要更长研发周期的硬骨头。

这个单晶炉技术的突破，虽然不能立即让国内的班的半导体工艺技术达到国际先进水平，但也会极大的降低国内半导体生产的成本和效率。