从而让太急电拿到了几十亿元的订单。

在研发出铜介质技术后的第三年，太急电和阿斯米联手，一起研制出了浸没式光刻技术。

在浸没式光刻技术出现之前，行业内采用的都是干湿光刻机，通过波长为193纳米的光线来对芯片进行光刻。

193纳米再往下就是157纳米波长的光线，但是这个光线容易被氧气中合，极大的影响光刻效果，因此多少年都没有进展。

这也当时的芯片停留在193纳米，长达20年的原因。

现在的光科技巨头尼康，佳能都在花费橘子研究157纳米的但是光刻机。

但是都没有获得成功。

太急电出了一个姓林的鬼才，提出了用水来替代空气做戒指的概念。

他的理论是谁会影响光的波长，而193纳米的波长通过水的折射，直接就变成了132纳米，跳过了最麻烦的157纳米。

这一世这个鬼才姓江了。

“现在的芯片为什么停止在193纳米再无进展，就是因为现在的干式光刻机的波长无法解决空气的问题，下面我再说一说光刻机的设想。”

讲到这里，江宇认为自己有必要喝口水润润嗓子，有点儿口干。

“我在这里做一个设想，能不能通过水替代空气做光的介质？这样说不定就能克服眼下光刻机遇到的问题，当然我只是瞎想，至于能不能做那就是你们的事情，哪怕你们做不出实体，也要做出理论。”

华国光刻机现在只能生产一微米以上的芯片，距离人家的193纳米制造技术还差着十万八千里。

江宇也不知道让渤海电子现在就研究浸没式光刻机算不算是异想天开。

哪怕只在理论上占领高地，那也是一个胜利。

浸没式光刻机的下一代是浸润式光刻机，那是以后的事情，现在若是能把浸没式光刻机鼓捣出来，就够世界震颤好久了。

江宇只负责设想和建议，至于研究什么的就和他无关了。

演讲完毕，他开了一张一千万的支票给渤海电子的研究部门，作为他投资半导体研究的第一笔投资。