见顾松有提起这个问题，章儒京问道：“能在12寸晶圆上工作的初代光刻机，和现在最新的型号在制程工艺上都有充分可挖掘的空间。顾总如果有办法让这个型号的光刻机发挥出最高的效能出来，应该也能满足工艺的需要。”

顾松心中一动。

好像……可以魔改一下嘞？

已经过去的2002年，湾积电那边的林木坚才刚提出浸润式光刻的概念，还没有得到普遍认同。英特尔还在吭哧吭哧地往157纳米波长的光刻机里砸钱，但用193纳米波长的光刻机加上浸润式光刻技术，可以实现134纳米的波长，比157纳米的极限还高。

这样一来还搞毛的157纳米波长光刻机？

英特尔被迫掉了个头，而湾积电也成功七级跳，一举成为最大的巨头之一。

现在这个时间点……大家都还在研究嘞，第一台浸润式光刻机还没研发成功来着。

现在研发牛逼的光刻机来不及，魔改一下……可以试试？

虽然以现在国内的制造工艺水平，可能根本搞不定。但是外挂都开到这种程度了，不需要再过于小心翼翼了吧？

在章儒京眼中，顾松是扶着额头在思考。

但其实他已经又咬咬牙，钻到意识空间里去了。

在里面，一呆又是将近半个小时。

“193纳米波长的干式光刻机，实现浸润式光刻的改造方案？制造工艺水平要求最低的改造方案？”

人工智能谢茵然有宕机的迹象。

立体投影里出现一堆图形和数据。

“基于哪一个型号的光刻机进行改造？”